sputtering W - incident angle スパッタリングと入射角
基体金属のタングステン(W:青)に稀ガス原子(赤)をぶつけます。
衝撃原子の入射角を変えてスパッタリングの様子を観察します。
タングステンの原子数が少ないことと、原子の配位数が3次元に比べ小さいため、
高エネルギーのスパッタ収率は高すぎるようです。

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