(218) random walk in potential field ポテンシャル中の酔歩
酔歩する粒子に、ポテンシャルUに由来する力(F=-grad U)が働くとき、ポテンシャルUの低い方向へ
粒子の移動する確率が高くなります。ポテンシャルUの位置にいる確率はexp(-eU/kT)に比例しますので、
となりの位置がΔUだけ高いと、exp(-eΔU/kT)に比例して、となりに移動する確率が小さくなります。
このため、ポテンシャルが低い位置に粒子が集まる傾向があります。
本例のポテンシャルはすり鉢状で、中央部が凹んでいます。その深さは調節できます。
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